Numerieke simulaties van plasmas en hun oppervlakteprocessen, gebruikt voor toepassingen in de micro-elektronica industrie.

Plasmas worden vaak gebruikt in de micro-elektronica industrie voor het fabriceren van computerchips. In dit project trachten we om een fundamenteel beter inzicht te krijgen in deze plasmas en hun oppervlakteprocessen. Het plasmagedrag van HBr/CHxFy/Cl2/O2-gebaseerde gasmengsels zal worden gesimuleerd met een hybride model, terwijl de interacties aan de oppervlakte van het substraat zullen worden beschouwd met zowel een Monte Carlo model als Moleculaire Dynamica.

Trefwoorden:FYSISCHE CHEMIE, MICRO ELECTRONICA, OPPERVLAKTES

Disciplines:Toegepaste wiskunde, Computerarchitectuur en -netwerken, Distributed computing, Informatiewetenschappen, Informatiesystemen, Programmeertalen, Scientific computing, Theoretische informatica, Visual computing, Andere informatie- en computerwetenschappen, Analytische chemie, Anorganische chemie, Macromoleculaire en materiaalchemie, Organische chemie, Theoretische en computationele chemie, Andere chemie