Electron beam lithografie systeem waarbij schrijfmogelijkheden op nanometer-schaal gecombineerd worden met kwalitatieve beeldvorming / inspectie van (geschreven) nanostructuren

Nanowetenschappen hebben aangetoond onmisbaar te zijn in het beantwoorden van recente technologische uitdagingen en zullen dit, zonder twijfel, ook in de komende jaren zijn. Materialen met nieuwe functionaliteiten worden gecreëerd door het ontwerpen en implementeren van de juiste opsluitingfenomenen voor zowel lading, spin als licht. Hun toepasbaarheid gaat van energie oogsten, de gezondheidszorg en informatie technologie om er enkele te noemen. Aan de KULeuven onderzoeken verschillende groepen de mogelijke impact en/of toepasbaarheid van het verkleinen van materialen in de nanometerschaal. Om competitief te zijn in deze onderzoeksvelden is het uitermate belangrijk om een nanofabricatie faciliteit te hebben met ongeëvenaarde resolutie. De diversiteit van interessante nanosystemen, gaande van één nanostructuur tot roosters van deze structuren, maakt flexibiliteit een uiterst belangrijke eigenschap. Dit elektronen bundel lithografie systeem combineert nanometer schrijf resolutie met hoge kwaliteit beeldvorming/inspectie. De veelzijdigheid van het toestel laat onderzoekers uit verschillende disciplines toe om complexe nanostructuren te maken nodig voor hun onderzoek.