< Terug naar vorige pagina

Project

Samengefocuste ionenbundel (FIB) faciliteit voor nanofabricage en nanocharacterisatie.

Het dual beam FIB (focused ion beam) systeem laat toe preparaten op een gecontroleerde manier te modificeren, er materiaal van te verwijderen of er op te deponeren - met een precisie van enkele nanometer! Door het preparaat te bombarderen met een lage-energie gefocuste ionenbundel kan men namelijk nanostructuren met een specifieke vorm en afmeting creëren, de structuur ervan wijzigen of ze elektrisch isoleren van de omgeving. Bovendien kan één specifieke nanostructuur geselecteerd worden en voorbereid voor verdere structurele of elektrische karakterisering met behulp van microscopie, tomografie of dergelijke. Vanzelfsprekend kan het proces alleen goed gecontroleerd worden indien het preparaat continue gemonitord wordt tijdens het ionenbombardement. Dit gebeurt door te detecteren hoe een gefocuste elektronenbundel interageert met het preparaat, waardoor de exacte plaats van de ionenbundel en de evolutie van de vorm en samenstelling nagegaan kunnen worden. De combinatie van gecontroleerde groei en karakterisering op quasi-atomaire schaal van individuele nanostructuren zal dit consortium toelaten om de mechanismes achter de specifieke eigenschappen op nm-schaal te ontrafelen.

Datum:1 mei 2016  →  Heden
Trefwoorden:Joint focused ion beam facility, FIB facility, nanofabrication, nanocharacterization
Disciplines:Nucleaire fysica