< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Pulsed chemical vapor deposition of conformal GeSe for application as an OTS selector

Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel

Tijdschrift: Materials Advances

Issue: 5

Volume: 2

Pagina's: 1635 - 1643

Institutional Repository URL: https://lirias.kuleuven.be/3441131
DOI: https://doi.org/10.1039/d0ma01014f
WoS Id: 000629901500012

Toegankelijkheid:Open

Zie ook: Pulsed chemical vapor deposition of conformal GeSe for application as an OTS selector