< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Atmospheric pressure plasma deposition of organosilicon thin films by direct current and radio-frequency plasma jets

Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel

Tijdschrift: MATERIALS

ISSN: 1996-1944

Issue: 6

Volume: 13

WoS Id: 000529208000035
Handle: http://hdl.handle.net/1854/LU-8654495
DOI: https://doi.org/10.3390/ma13061296

Toegankelijkheid:Open