< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Atomic layer deposition of localised boron- and hydrogen-doped aluminium oxide using trimethyl borate as a dopant precursor

Boekbijdrage - Boekabstract Conferentiebijdrage

Boek: EuroCVD 22 - Baltic ALD 16, Conference abstracts

Aantal pagina's: 1

Jaar van publicatie:2019

Handle: http://hdl.handle.net/1854/LU-8625845

Toegankelijkheid:Closed