< Terug naar vorige pagina
Publicatie
Nucleation enhancement and area-selective atomic layer deposition of ruthenium using RuO4 and H2 gas
Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel
Ondertitel:Nucleation Enhancement and Area-Selective Atomic Layer Deposition of Ruthenium Using RuO4 and H-2 Gas
Tijdschrift: CHEMISTRY OF MATERIALS
ISSN: 1520-5002
Issue: 5
Volume: 31
Pagina's: 1491 - 1499
Jaar van publicatie:2019
BOF-keylabel:ja
IOF-keylabel:ja
BOF-publication weight:10
CSS-citation score:2
Auteurs:National
Authors from:Higher Education
Toegankelijkheid:Open