Fabricatie van flexibele, biocompatibele ‘extreme’ bi-directionele diffusiebarrières van superieure kwaliteit via in situ ‘atomaire laag depositie’ (ALD) bij lage temperatuur, ter bescherming van implanteerbare elektronica, elektronische contact lenz Universiteit Gent
De aangevraagde lage temperatuurs-ALD (Atomic Layer Deposition) extensie voor ons huidig Paryleen-depositietoestel, zal ons in staat stellen een hoogkwalitatieve TiO2/Al2O3/TiO2 ALD stack met Paryleen te combineren, om zo een ultradunne, biocompatibele en flexibele bi-directionele diffusiebarrière van superieure kwaliteit te maken. Door grondige procesoptimisatie, en door de in-situ depositie inclusief plasma-behandeling voor optimale ...