< Terug naar vorige paginaPublicatie Processing Stability of Monolayer WS2 on SiO2 Tijdschriftbijdrage - TijdschriftartikelTijdschrift: Nano ExpressIssue: 2Volume: 2Jaar van publicatie:2021WoS Id: 000659104800001DOI: https://doi.org/10.1088/2632-959x/ac022bInstitutional Repository URL: https://lirias.kuleuven.be/3472046 Toegankelijkheid:OpenAuteurs/uitgeverGilles Delie (First author)D Chiappe (Auteur)I Asselberghs (Auteur)C Huyghebaert (Auteur)I Radu (Auteur)S Banerjee (Auteur)B Groven (Auteur)S Brems (Auteur)VV Afanas'ev (Last author)OnderzoekseenhedenHalfgeleiderfysica(Afdeling)KU Leuven