< Terug naar vorige pagina
Publicatie
Electron trapping in ferroelectric HfZrO4 and Al- and Si-doped layers
Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel
Tijdschrift: Solid-State Electronics
ISSN: 0038-1101
Volume: 183
Jaar van publicatie:2021
BOF-keylabel:ja
IOF-keylabel:ja
BOF-publication weight:1
CSS-citation score:1
Authors from:Government, Higher Education
Toegankelijkheid:Open