Geavanceerde polymerische fotonische componenten gefabriceerd d.m.v. de nano-imprint lithografie methode

Nieuwe geavanceerde passieve fotonische componenten zullen gefabriceerd worden in polymeer gebruik makend van de nano-imprint lithografie. De componenten omvatten o.a. microringresonatoren met hoge Q-factor voor sensors, athermische SOI microring resonatoren op basis van slotgolfgeleiders en triplexer op basis van asymmetrische Y-juncties voor FTTH toepassingen.