Onderzoeker
Stefan Tinck
- Trefwoorden:Scheikunde
- Disciplines:Analytische chemie, Anorganische chemie, Macromoleculaire en materiaalchemie, Medicinale en biomoleculaire chemie, Organische chemie, Fysische chemie, Duurzame chemie, Theoretische en computationele chemie, Andere chemie, Biochemie en metabolisme, Andere biologische wetenschappen, Andere natuurwetenschappen
Affiliaties
- Plasma Lab voor toepassingen in duurzaamheid en geneeskunde - Antwerpen (PLASMANT) (Onderzoeksgroep)
Lid
Vanaf1 okt 2006 → 31 aug 2018
Projecten
1 - 4 of 4
- Numerieke simulaties van plasmas en hun oppervlakteprocessen, met experimentele validatie, voor een beter inzicht in cryogeen etsen.Vanaf1 okt 2015 → 31 aug 2018Financiering: FWO mandaten
- Numerieke simulaties van plasmas en hun oppervlakteprocessen, gebruikt voor toepassingen in de micro-elektronica industrie.Vanaf1 okt 2012 → 30 sep 2015Financiering: FWO mandaten
- Numerieke simulaties van inductief gekoppelde plasma's gebruikt voor etstoepassingen.Vanaf1 jan 2010 → 31 dec 2011Financiering: IWT persoonsgebonden financ. - specialisatiebeurzen
- Numerieke simulaties van inductief gekoppelde plasma's gebruikt voor etstoepassingen.Vanaf1 jan 2008 → 31 dec 2009Financiering: IWT persoonsgebonden financ. - specialisatiebeurzen
Publicaties
1 - 10 van 23
- Combining experimental and modelling approaches to study the sources of reactive species induced in water by the COST RF plasma jet(2018)
Auteurs: Yury Gorbanev, Christof Verlackt, Stefan Tinck, Kenn Foubert, Paul Cos, Annemie Bogaerts
Pagina's: 2797 - 2808 - Concurrent effects of wafer temperature and oxygen fraction on cryogenic silicon etching with $SF_{6}/O_{2}$ plasmas(2017)
Auteurs: Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Violeta Georgieva, Rémi Dussart, Erik Neyts, Annemie Bogaerts
- Progress and prospects in nanoscale dry processes(2017)
Auteurs: Kenji Ishikawa, Kazuhiro Karahashi, Takanori Ichiki, Jane P. Chang, Steven M. George, W.M.M. Kessels, Hae June Lee, Stefan Tinck, Jung Hwan Um, Keizo Kinoshita
- Mechanisms for plasma cryogenic etching of porous materials(2017)
Auteurs: Quan-Zhi Zhang, Stefan Tinck, Jean-François de Marneffe, Liping Zhang, Annemie Bogaerts
- Elucidating the effects of gas flow rate on an $SF_{6}$ inductively coupled plasma and on the silicon etch rate, by a combined experimental and theoretical investigation(2016)
Auteurs: Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Erik Neyts, Annemie Bogaerts
- Computational study of the $CF_{4}/CHF_{3}/H_{2}/Cl_{2}/O_{2}/HBr$ gas phase plasma chemistry(2016)
Auteurs: Stefan Tinck, Annemie Bogaerts
Pagina's: 1 - 19 - Role of vibrationally excited HBr in a HBr/He inductively coupled plasma used for etching of silicon(2016)
Auteurs: Stefan Tinck, Annemie Bogaerts
Pagina's: 1 - 6 - Cryogenic etching of silicon with $SF_{6}$ inductively coupled plasmas: a combined modelling and experimental study(2015)
Auteurs: Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Annemie Bogaerts
- Modeling and experimental investigation of the plasma uniformity in $CF_{4}/O_{2}$ capacitively coupled plasmas, operating in single frequency and dual frequency regime(2015)
Auteurs: Yu-Ru Zhang, Stefan Tinck, Peter De Schepper, You-Nian Wang, Annemie Bogaerts
- Numerical investigation of HBr/He transformer coupled plasmas used for silicon etching(2015)
Auteurs: Banat Gul, Stefan Tinck, Peter De Schepper, Aman-ur-Rehman, Annemie Bogaerts