< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Atomic layer deposition of ternary ruthenates by combining metalorganic precursors with RuO4 as the co-reactant

Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel

Tijdschrift: DALTON TRANSACTIONS

ISSN: 1477-9234

Issue: 28

Volume: 51

Pagina's: 10721 - 10727

Jaar van publicatie:2022

WoS Id: 000722718000001
DOI: https://doi.org/10.1039/d1dt03543f
Handle: http://hdl.handle.net/1854/LU-8741261

Toegankelijkheid:Open