Fundamentele studie van de groeikinetiek en gelijkvormigheid van thermische en plasma-geassisteerde atomaire laag depositie

Groeikinetiek van ALD en PE-ALD: deze studie behandelt fundamentele vragen rond de initiële nucleatie, de evolutie van de oppervlakruwheid en de kristalliniteit van de lagen tijdens de depositie. Gelijkvomrigheid van ALD en PE-ALD: dit onderzoek tracht de gelijkvormigheid te karakteriseren in functie van de substraat morfologie, temperatuur en pulssequentie. Een tweede doelstelling is het modelleren van de gelijkvormigheid.