< Terug naar vorige pagina

Publicatie

Insights into the C Distribution in Si:C/Si:C:P and the Annealing Behavior of Si:C Layers

Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel

Tijdschrift: Ecs Journal Of Solid State Science And Technology
ISSN: 2162-8769
Issue: 4
Volume: 8
Pagina's: P209 - P216
Jaar van publicatie:2019
BOF-keylabel:ja
IOF-keylabel:ja
BOF-publication weight:1
CSS-citation score:1
Auteurs:International
Authors from:Government, Higher Education