< Terug naar vorige pagina
Publicatie
Low-Frequency Noise in Vertically Stacked Si n-Channel Nanosheet FETs
Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel
Tijdschrift: IEEE Electron Device Letters
ISSN: 0741-3106
Issue: 3
Volume: 41
Pagina's: 317 - 320
Jaar van publicatie:2020
BOF-keylabel:ja
IOF-keylabel:ja
BOF-publication weight:1
CSS-citation score:2
Auteurs:International
Authors from:Government, Higher Education
Toegankelijkheid:Closed