< Terug naar vorige pagina
Publicatie
Atomic layer deposition of Al2O3 using aluminum triisopropoxide (ATIP) : a combined experimental and theoretical study
Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel
Tijdschrift: JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C
ISSN: 1932-7447
Issue: 1
Volume: 123
Pagina's: 485 - 494
Jaar van publicatie:2019
BOF-keylabel:ja
IOF-keylabel:ja
BOF-publication weight:3
CSS-citation score:1
Auteurs:International
Authors from:Higher Education
Toegankelijkheid:Closed