< Terug naar vorige pagina
Publicatie
In situ UHVEM study of {113}-defect formation in Si nanowires
Tijdschriftbijdrage - Tijdschriftartikel Conferentiebijdrage
Tijdschrift: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY
ISSN: 0268-1242
Issue: 11
Volume: 30
BOF-keylabel:ja
IOF-keylabel:ja
BOF-publication weight:0.1
CSS-citation score:1
Auteurs:International
Authors from:Government
Toegankelijkheid:Closed