Onderzoeker
Jakob Kuhs
- Disciplines:Fysica van gecondenseerde materie en nanofysica
Affiliaties
- Afdeling Onderzoekscoördinatie (Administratieve eenheid)
Lid
Vanaf1 okt 2020 → Heden - Vakgroep Vastestofwetenschappen (Departement)
Lid
Vanaf28 mei 2014 → 20 sep 2020
Publicaties
1 - 10 van 11
- Atomic layer deposition of metal sulphides for the embedding of colloidal quantum dots(2020)
Auteurs: Jakob Kuhs
- In situ characterization of quantum dot photoluminescence during atomic layer deposition: towards stable Cd-free QD-based devices(2020)
Auteurs: Robin Petit, Natalia Zawacka, Jakob Kuhs, Philippe Smet, Zeger Hens, Christophe Detavernier
Aantal pagina's: 1 - Ligand binding to copper nanocrystals : amines and carboxylic acids and the role of surface oxides(2019)
Auteurs: Arnau Oliva Puigdomènech, Jonathan De Roo, Jakob Kuhs, Christophe Detavernier, José Martins, Zeger Hens
Pagina's: 2058 - 2067 - In situ photoluminescence of colloidal quantum dots during gas exposure : the role of water and reactive atomic layer deposition precursors(2019)
Auteurs: Jakob Kuhs, Andreas Werbrouck, Natalia Zawacka, Emile Drijvers, Philippe Smet, Zeger Hens, Christophe Detavernier
Pagina's: 26277 - 26287 - Impact of atomic layer deposition on the photoluminescence of colloidal quantum dots(2019)Volume: MA2019-02
Auteurs: Jakob Kuhs, Andreas Werbrouck, Natalia Zawacka, Emile Drijvers, Philippe Smet, Zeger Hens, Christophe Detavernier
Aantal pagina's: 1 - Plasma enhanced atomic layer deposition of gallium sulfide thin films(2019)
Auteurs: Jakob Kuhs, Zeger Hens, Christophe Detavernier
- Plasma enhanced atomic layer deposition of aluminum sulfide thin films(2018)
Auteurs: Jakob Kuhs, Zeger Hens, Christophe Detavernier
- Plasma enhanced atomic layer deposition of aluminium sulphide(2017)
Auteurs: Jakob Kuhs, Zeger Hens, Christophe Detavernier
Aantal pagina's: 1 - Plasma enhanced atomic layer deposition of zinc sulfide thin films(2017)
Auteurs: Jakob Kuhs, Thomas Dobbelaere, Zeger Hens, Christophe Detavernier
- Thin, low roughness Ru films deposited by thermal and plasma enhanced atomic layer deposition using RuO4 and H2 at low temperatures(2016)
Auteurs: Matthias Minjauw, Jolien Dendooven, Christian Dussarat, Eduardo Solano Minuesa, Kilian Devloo-Casier, Jakob Kuhs, Marc Schaekers, Alessandro Coati, Christophe Detavernier
Aantal pagina's: 1